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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，營口純金靶材，一般要求如，純金靶材技術(shù)，尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式，純金靶材價格，就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。
對圓周方向的電阻值的不均勻依然無法改善。
此外，采用連續(xù)硫化法時，如果硫化時的熱傳遞沒有設(shè)法盡量達(dá)到均勻，則擠壓后的硫化速度不一致，這樣可能電阻值的不均勻程度反而大于間歇式硫化法。特別是在圓周方向上這種傾向更顯著。
采用連續(xù)硫化法時，在擠壓機(jī)的擠壓筒內(nèi)的半徑方向上有非常大的剪切速度分布，這可能會影響電子導(dǎo)電性填充劑的分散。
電源供應(yīng)裝置通過一升降機(jī)構(gòu)安裝在機(jī)座上并與控制裝置電連接；所述整體測量機(jī)構(gòu)包括一安裝在機(jī)座上的驅(qū)動電機(jī)、一連接在驅(qū)動電機(jī)上的傳動軸及一安裝在傳動軸的一端的接地端；所述擇點(diǎn)測量機(jī)構(gòu)包括一安裝在機(jī)座上的第二驅(qū)動電機(jī)、一對安裝在所述第二驅(qū)動電機(jī)上的第二傳動軸、一安裝在機(jī)座上并與所述第二傳動軸平行的滑軌及若干安裝在滑軌上的測點(diǎn)探針。
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第9年
